根据台积电官方描述，CoWoS 封装技术继任者所创建的硅中介层，其尺寸是光掩模（Photomask，也称 Reticle，大约为 858 平方毫米）是 3.3 倍。

 

       CoWoS 封装技术继任者可以封装逻辑电路、8 个 HBM3 / HBM3E 内存堆栈、I / O 和其他芯粒（Chiplets），最高可以达到 2831 平方毫米，最大基板尺寸为 80×80 毫米。消息称 AMD 的 Instinct MI300X 和 Nvidia 的 B200 都使用这种技术。

 

 

       台积电计划 2026 年投产下一代 CoWoS_L，硅中介层尺寸可以达到光掩模的 5.5 倍，可以封装逻辑电路、 12 个 HBM3 / HBM3E 内存堆栈、I / O 和其他芯粒（Chiplets），最高可以达到 4719 平方毫米。

 

       台积电还计划在 2027 年继续推进 CoWoS 封装技术，让硅中介层尺寸达到光掩模的 8 倍以上，提供 6864 平方毫米的空间，封装 4 个堆叠式集成系统芯片 (SoIC)，与 12 个 HBM4 内存堆栈和额外的 I / O 芯片。